Optische Nanostrukturen in CMOS-Technologie
Mit unserer nanoSPECTRAL-Technologie werden kostengünstig komplexe Farb-, Spektral- und Polarisationssensoren hergestellt, die die spektralen Eigenschaften und den Polarisationszustand des einfallenden Lichts erfassen. Dies eröffnet neue Möglichkeiten für die spektrale Analyse von Lichtquellen sowie von Objekten in Transmission und Reflexion. Die Grundlage hierfür bilden Photodioden und optische Nanostrukturen, die in Metalllagen von CMOS-Prozessen integriert sind. D. h. es werden die in einem modernen Halbleiterprozess verwendeten Metallebenen im Nanometerbereich strukturiert und damit Filter, Photodioden sowie analoge und digitale Signalverarbeitung integriert. So entstehen hochintegrierte, monolithische Sensoren mit vielen Spektralkanälen zu niedrigen Kosten. Im Gegensatz zu konventionellen optischen Filtern wie Dünnschichtfiltern erfordern unsere optischen Nanostrukturen keine zusätzlichen Schritte wie das Aufbringen optischer Filterschichten. Da die nanoSPECTRAL-Technologie in einem kommerziellen CMOS-Prozess verfügbar ist, sind darauf basierende Produkte in industrieller Qualität und kurzfristig erhältlich.